Танталовый лист 0,6х80х100 мм ТВЧ в Саратове

Танталовый лист марки ТВ-5, как и чистый тантал, обладает исключительной стойкостью к царской водке при комнатной температуре. Скорость коррозии крайне низка, практически незаметна. Это делает его подходящим для работы с данной высокоагрессивной средой.

Танталовый лист марки ТВ-5, содержащий 5% вольфрама, дает преимущества при изготовлении высокоточных деталей благодаря своей повышенной прочности и твердости по сравнению с чистым танталом. Это обеспечивает лучшую стабильность размеров после механической обработки и формовки, минимизируя деформации.

Помимо химического состава, наиболее критичными факторами окружающей среды для долговечности танталового листа являются температура, давление, наличие абразивных частиц, уровень радиационного воздействия, а также концентрация водорода и фторид-ионов. Эти параметры могут существенно влиять на скорость коррозии и механические свойства.

Выбор метода поверхностной обработки танталового листа, такого как травление или полировка, может влиять на его коррозионную стойкость. Химическое травление может пассивировать поверхность, улучшая стойкость. Механическая полировка создает более гладкую поверхность, уменьшая места для начала коррозии, но может вызывать поверхностный наклеп.

Сварка танталового листа марки ТВЧ при несоблюдении защитной атмосферы (аргон высокой чистоты) может привести к ухудшению механических свойств из-за поглощения газов (кислорода, азота, водорода) из воздуха. Это вызывает охрупчивание металла в зоне шва. Правильная сварка минимизирует эти изменения.

Танталовый лист марки ТВ-10, легированный 10% вольфрама, обладает значительно более высокой твердостью по Бринеллю по сравнению с чистым танталом (ТВЧ). Эта повышенная твердость обеспечивает лучшую износостойкость, что делает его предпочтительным для применений, где требуется сопротивление абразивному или эрозионному износу.

В производстве анодов для электролитических конденсаторов применяются танталовые листы высокой чистоты, прежде всего марки ТВЧ. Его способность к формированию стабильной и тонкой диэлектрической оксидной пленки с высоким пробивным напряжением критична для характеристик конденсатора.